离子束刻蚀属于干法刻蚀, 其核心部件为离子源. 作为蚀刻机的核心部件,KRi 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的宽束离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!

　　KRi 离子源工作过程: 气体通入离子源的放电室中, 电离产生均匀的等离子体, IBE系统由离子源的栅极将正离子引出并加速, 然后由中和器进行中和. 利用引出的带有一定动能的离子束流撞击样品表面, 通过物理溅射将材料除去, 进而获得刻蚀图形. 这一过程属于纯物理过程, 一般运行在较高的真空度下.

　　这种物理方案, 栅网拉出的离子束的能量和密度可以独立控制, 提升了工艺可控性

　　通过载片台的角度调整, 实现离子束倾斜入射, 可用于特殊图案的刻蚀, 也适用于侧壁清洗等工艺.

　　上海伯东同时提供IBE 离子蚀刻系统所需的涡轮分子泵,真空规,高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的蚀刻系统.

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